1、高纯碲靶材加工工艺流程
原料
原料检测
成型
热处理
机加工成型
选用进口或
国产高纯碲
ICP
XRD，GDMS
热等静压烧结，真空感应熔炼
电子束熔炼，悬浮熔炼等
晶粒细化
切割，磨床
车床，加工中心
成品检测
绑定
探伤扫描
合格
包装出库
交付客户
检测成品外观
尺寸公差
金属化
绑定
靶材专用
包装
2、应用领域机设备
2-1适用设备：适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、Kurt J.Lesker 爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统，多靶溅射系统，离子溅射系统等磁控溅射设备。
2-2应用领域：生产及科研方面应用，光学，微纳加工，器件等行业，广泛用于半导体芯片、太阳能光伏 、平面显示、特种涂层等镀膜产品。
3、靶材规格
3-1 材质：碲（TeTarget））。
3-2 纯度：99.99%，99.999%，99.9999%。
3-3 晶粒度：4