线路板的电镀工艺是其加工过程中的关键技术，通常包括酸性光亮铜电镀、镍/金、锡等工艺。本文将详细介绍电镀工艺中的技术、流程以及具体操作方法。
02、浸酸工艺
浸酸工艺的主要目的是除去板面氧化物，活化板面。通常，酸液浓度维持在5%左右，有时会达到10%，旨在防止水分带入导致的槽液硫酸含量波动。在操作过程中，需注意酸浸时间不宜过长，以防板面氧化。此外，若酸液变得浑浊或铜含量过高，应及时更换。
镀镍与维护：
镀镍工艺在电路板制造中扮演着重要角色。镀镍作为铜与金的过渡层，防止金铜互相扩散，影响板子的可焊性和使用寿命。镀镍添加剂的补充通常依据千安小时或实际生产板的效果，需控制温度与添加剂进行定期维护。
在进行PCB电镀时，需要注意以下几点：
电镀液的选择：应根据电路板的材质、厚度以及所需金属层的性能要求，选择合适的电镀液。
电镀条件的控制：电镀过程中的电流密度、温度、时间等参数需严格控制，以保证金属层的均匀性和质量。
电镀前的预处理：在电镀前，应对电路板进行清洁、除油、除锈等预处理，以确保电镀层与电路板表面的良好结合。
电镀后的处理：电镀完成后，应对电路板进行清洗、烘干等后处理，以去除多余的电镀液和残留物，提高电路板的可靠性。
电镀原理与基本流程：
水平电镀与垂直电镀在方法和原理上虽有所差异，但核心要素相似。它们都依赖阴阳两极的设定，通过通电引发电极反应，使得电解液中的主成分发生电离。正离子在电场作用下向电极反应区的负极移动，而负离子则向正极移动，从而形成金属沉积镀层并释放气体。
在水平电镀过程中，镀液中的铜离子主要通过三种方式输送到阴极附近：一是靠扩散作用，二是靠离子迁移，三是靠主体镀液的对流作用及离子迁移。这些过程共同构成了水平电镀的基本原理。水平电镀通过电流反应沉积金属，借助于对流、离子迁移等手段实现镀层均匀。